NX-A10/A20/B100光刻机NX-B200/1000/2000/2500/2600

NX-A10/A20/B100光刻机NX-B200/1000/2000/2500/2600

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-03-17 09:53:24
242
产品属性
关闭
北京中兆国仪科技有限公司

北京中兆国仪科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

光刻机NX-B200/1000/2000/2500/2600纳米压印光刻机、 简称NIL 、NIL光刻机、软紫外纳米压印,热压印, 紫外纳米压印步进闪光压印,

详细介绍

光刻机NX-B200/1000/2000/2500/2600纳米压印光刻机、 简称NIL 、NIL光刻机、软紫外纳米压印,热压印,  紫外纳米压印步进闪光压印, 软模具的, 热和紫外复合压印工艺  逆压印, 激光辅助直接压印, 连续压印,滚压印, 基底完整压印光刻, 软分子尺度压印, 超声纳米压印, 静电辅助纳米压印, 流体介电泳和电毛细力驱动纳米压印

光刻机NX-B200/1000/2000/2500/2600

 

 

 

型号

选购说明

NX-A10

小型台式基板纳米压印系统(热压印或紫外压印)

zui大50毫米直径压印面积  热压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

NX-A20

小型台式基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)

zui大50毫米直径压印面积  热压印和紫外压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

58mW/cm2紫外LED光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

NX-B100

多功能整片基板纳米压印系统(热压印或紫外压印)

zui大75毫米直径压印面积  热压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

NX-B200

多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)

zui大75毫米直径压印面积  热压印和紫外压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

58mW/cm2紫外LED光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

NX-1000

多功能整片基板纳米压印系统(热压印或紫外压印)

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选   热压印 加热速度>300℃/分钟  制冷速度>150℃/分钟

NX-2000

多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选   热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

NX-2500

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

带对准功能(亚1微米对准精度) 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

NX-2600

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统

可选背面对准

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制

带对准功能(亚1微米对准精度) 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

标配5”模板,标配4”直径基板  其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源

 

上一篇:电池包冷却冷水机Chiller的优势和应用介绍 下一篇:深冷机Chiller在半导体制造工艺中的应用
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话:

温馨提示

该企业已关闭在线交流功能