品牌
其他厂商性质
沈阳市所在地
产品简介:1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV操作视频
产品型号 | 1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源 4、落地式,占地面积:尺寸1600mm×600mm×700mm 5、通风装置:需要 |
主要特点 | 1、采用高纯氧化铝保温材料,保证了的温度均匀性。 2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度。 3、采用PID控制器 ,可以设置30段升降温程序。 4、金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。 5、采用双管真空密封法兰,允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)。 6、冷却气体直接通入内管。 7、配有带KF25快接和波纹管的高速机械泵。 8、炉底部装有滑轨,炉体可从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温。为了获得较快的加热速度,可以先将炉体预热,然后滑至放置样品处;为了获得较快的冷却速度,可将炉体滑至另一端,同时将冷气通入样品所在处。 9、密封法兰系统采用不锈钢制作。 10、已通过CE认证。 |
技术参数 | 管式炉 1、电源:单相AC 208V-240V 50Hz/60Hz 2.5KW (20A保险丝) 2、石英管:外管外径Ø100mm,内径Ø96mm,长1400mm 内管外径Ø80mm,内径Ø75mm,长1400mm 3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝(表面涂有氧化锆) 4、加热区域:440mm 5、恒温区域:120mm(±1℃在400-1100℃) 6、工作温度:1100℃,连续工作1000℃ 7、升降温速率:20℃/min 8、控温精度:±1℃ 9、真空度:10-3torr(机械泵),10-5torr(分子泵) |
质量流量混气系统 1、质子流量计:4路精密质子流量计,数字显示,气体流量自动控制 MFC1范围0-100sccm,MFC2范围0-200sccm,MFC3范围0-200sccm,MFC1范围0-500sccm 2、流量精度:0.2% 3、气路:4路(每个气路都有一个独立的不锈钢针阀控制) 4、进出气口:1/4″卡套 5、混气罐:1个 | |
产品规格 | 尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,移动架600mm×600mm×597mm 重量:135kg |
可选配件 | 1、分子泵 2、双温区管式炉 3、铜箔(生长石墨烯150mm×150mm×25µm) |