UVM-1TM全光谱显微镜（UV-visible-NIR microscope）的设计是将紫外和近红外成像技术和宽带显微技术相结合，能够的实现紫外-可见-近红外的成像。具有前沿技术的UVM-1TM显微镜结合了CRAIC公司创新设计的光学技术，用户仅用一台显微镜就能在整个宽光谱范围内完成显微成像。无论高分辨率，还是光谱成像能力，UVM-1TM都代表显微成像领域的。
具有的多功能性系统设计能够允许用户只在一台显微镜上获得紫外-可见-近红外的高分辨率成像和分析结果。紫外显微镜对半导体内微量异物有很高的灵敏性，相比标准的显微镜，具有更强大的能力解决细节变化；而近红外显微镜能够无损的、有选择性的对硅晶片设备内部的电子电路进行精确成像。这些应用只是其众多应用领域的一小部分，UVM-1TM全光谱显微镜灵活的设计使其在任何应用领域都能做到、秀。
UVM-1TM使用创新的光学设计，并配有高分辨能力的数字相机和高放大倍数的显微镜，能够在全光谱范围内获得高品质和高分辨率的彩色成像。UVM-1TM全光谱显微镜堪称是一款强大、无二的显微光谱分析工具。
显微镜光谱范围 200-2500nm
透射图像 可用
荧光激发 254-546nm
反射成像系统 可用
偏振成像 可用
视图范围 40-2400微米
高分辨率紫外成像 可用
高分辨率近红外成像 可用
紫外-可见-近红外目标 可用
冷固态传感器 可用
显微镜自动化 可用