【邀请函】清华大学与HORIBA合作举办技术讲座—— 脉冲射频辉光放电光谱仪的深度剖析与广泛应用 | 9月26日·北京
时间：2024-09-23 阅读：33
脉冲射频辉光放电光谱仪(GD-OES)，是薄膜与镀层材料元素深度剖析的革命性分析工具。其检测能力覆盖了元素周期表中的绝大多数元素，无论是导体、非导体，还是两者相间的复杂薄膜/镀层结构，均能以卓越的深度分辨率轻松应对，同时确保测试过程既快速又准确，极大地提升了科研与工业生产中的效率与可靠性。
作为先进的分析测试技术供应商，HORIBA 携手清华大学材料学院，合作举办技术讲座。讲座将深入介绍脉冲射频辉光放电光谱仪(GD-OES)的测量原理、构造设计与技术特点，同时也将通过丰富的案例，展示该技术在金属、半导体、太阳能电池、锂电材料、储氢材料、防腐科学研究以及燃料电池等多个领域的广泛应用。
9 月 26 日 (星期四) 9:00-11:00
清华大学逸夫技术科学楼 A205/A209
讲师介绍
贾雅梅
HORIBA 辉光放电光谱仪应用工程师
硕士研究生，主要负责辉光放电光谱仪的样品测试、应用开发及技术支持。熟悉仪器特性及各附件操作流程，掌握薄膜材料、圆柱样品、小尺寸样品和各类不规则样品的测试方法，在金属涂层、防腐研究、太阳能电池板、半导体材料以及燃料电池等多个领域具有丰富的经验积累。
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