用途
•高分子材料表面的官能基付与一粘合性、密着性提高。通 过氧化反应，在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能 基（微量的水分及二氧化碳影响）。
同样在氮气等离子体中，氮原子被吸收在表面中，生
成-NH 2等官能基。
•硅晶圆蚀刻。
•材料表面改性（金属、聚合物、薄膜、啕瓷等）。
•石棉预处理（膜过滤灰化）。
•从电子设备到生化市场。
•低温灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。
•使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。
•表面有机物去除。
■特点
• RF为200 W的高性能输出类型（PR200）。
•由于是尺寸紧凑的台式机，很小的位置都可以安装。
•同步，自动调谐，操作简单（PR200）。
•等离子体反应器（灰化设备）（PR200）。
•同步、自动调谐（PR200）。
