PI2114 过氧化氢 (H₂O₂ ) 气体浓度分析仪

• 持续测量亚 ppb 级的 H2O2 

• 内置软件，以符合 21 CFR Part 11 要求 

• 获得的光腔衰荡光谱 ( CRDS ) 技术 

• 仅需少量维护 • 无需采用湿化学法或耗材

应用领域：确保 GMP 制药生产中过氧化氢的超低残留

Picarro PI2114 气体浓度分析仪可确保超低残留的过氧化氢水平，以便在隔离的符合药品生产质量管理规范 ( GMP ) 的制药生产应用中助 力避免发生氧化并确保药物稳定性。高效原料药  ( API ) 和生物制剂制造以及无菌灌装与后续工艺 需要采用无菌、隔离的生产环境。气化过氧化氢  ( vHP ) 广泛用于灭菌和去污。然而，如果在去污 和曝气后残留的过氧化氢水平仍然过高，则药物 产品会发生氧化和降解。

Picarro PI2114 气体浓度分析仪能够以高于  1 ppb 的精度持续测量低至 3 ppb 的过氧化氢  (H₂O₂ ) 水平。该分析仪针对 GMP 应用进行了优 化。

安装与操作认证快速而便捷，使用市售的替 代气体即可完成验证。

PI2114 分析仪附装内置软件，符合美国食品 和药物管理局 21 CFR Part 11 条款就临床和商业 化制造方面的规定。

可配置为以数字格式或通过可选的模拟输出 将测量数据自动输出至 SCADA 控制系统或数据 记录设备。

PI2114 分析仪操作简便，价格经济，无需采 用湿化学法或耗材。获得的 Picarro 光腔衰荡光谱 ( CRDS ) 技术无需使用移动部件，并且可 融合波长监测功能。这提供了长期的稳定性与可靠性，以实现低频度校准和维护的要求

确保超低 H₂O₂ 水平

如图 1 所示，Picarro PI2114 气体浓度分析仪具有近五个数量级的线性动态范围，可以持续测量 H₂O₂ 水平。这确保用户： 

• 测量低至 3.3 ppb 的 H₂O₂ 水平，以避免氧化， 也有助于维持药物的效能、安全性和稳定性。 

• 从通风周期早期开始监测残留的 H₂O₂ 水平，以确定其何时可达到足够低的水平，从而开始可靠 的生产作业。 

• 在整个生产流程中持续监测残留的 H₂O₂，以确保其不会因材料的废气释放而上升至不可接受的 水平。

图1 在通风周期内监测残留 H2O2 水平