SEMPREP SMART离子研磨仪配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁的理想选择。离子加工可以改进和清洁机械抛光的 SEM 样品并为 EBSD 分析制备无损表面。该设备还适用于快速截面加工。为您制备高精度和高质量的样品，例如在半导体测试或锂离子电池隔膜的截面检查中均能实现出色的效果。
SEMPREP SMART 离子研磨仪
SEMPREP SMART离子研磨仪配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁的理想选择。离子加工可以改进和清洁机械抛光的 SEM 样品并为 EBSD 分析制备无损表面。该设备还适用于快速截面加工。为您制备高精度和高质量的样品，例如在半导体测试或锂离子电池隔膜的截面检查中均能实现出色的效果。
主要特点：
• 先进的离子枪设计和自动化功能
• 新型用户友好操作软件:为用户提供智能辅助
• 更精确的针阀:允许对气流进行精细调整
• 高精度可调性:用于精细调节操作
• 更长寿命高真空传感器
产品功能：
• 可选低能枪（LEG）
• 可选的新型 LN2 冷却系统
• 可选真空转移装置 (VTU)，用于在真空条件下取出样品
• 独立的对位样品台：在进行 90° 加工时用于精确样品定位
技术参数：
离子枪：
超高能量离子枪，最高可达 16 keV
样品尺寸
截面样品台（可选 30°、90°样品台）：
• 30°样品台：最大尺寸16.4mm (长) x 16mm (宽) x 3.1mm (厚)
• 90°样品台：最大尺寸18.6mm (长) x 16mm (宽) x 6mm (厚)
用于表面加工（EBSD）的平面样品台，配有三种不同的头部类型
• 平头型：最大直径 50mm x 4mm
• 标准型：最大直径 32mm x 15mm
• 空心型：最大直径 25mm x 23mm
样品台移动
• 样品倾斜角度：0° 至 30°，每 0.1° 连续可调
• 样品旋转角度调节：360 可变速样品旋转，角度速度可调
• 样品加工摆角（摇摆）：±10° 至 ±120°，每 5° 连续可调
样品冷却（可选）
液氮冷却或 Peltier 冷却
真空系统
无油隔膜泵和分子泵
气体供应系统
纯度为 99.999% 的氩气工作气体，高精度针阀流量控制
分子泵
HiPace 80 Neo.
成像系统
500万像素CMOS相机，具有图像内的测量功能
计算机控制
易于使用的图形界面，自动化离子枪操作和样品台 位置校准
使用氩离子束进行加工
