高精度低温恒温槽应用范围：
对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
| 型号 | 温度范围（℃） | 温度均匀度(水平/垂直℃) | 内 槽尺寸（mm） | 总容量（L) | 工作槽开口 (mm2) | 制冷量（W） 20℃时纯水 | 外循环泵流量 |
| (长X宽X槽深度) | (L/min) | ||||||
| GDH-0506 | -5~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 600 | 6 |
| GDH-0510 | -5~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 900 | 6 |
| GDH-0515 | -5~100 | ±0.0020 | 300×250×200 | 15 | 235×160 | 1500 | 6 |
| GDH-0520 | -5~100 | ±0.0020 | 300×250×270 | 20 | 235×160 | 2000 | 6 |
| GDH-0530 | -5~100 | ±0.0020 | 440×325×210 | 30 | 310×280 | 2700 | 6 |
| GDH-0550 | -5~100 | ±0.0020 | 500×340×300 | 50 | 350×300 | 4000 | 6 |
| GDH-05100 | -5~100 | ±0.0020 | 625×400×400 | 100 | 400×380 | 7000 | 6 |
| GDH-1006 | -10~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 800 | 6 |
| GDH-1010 | -10~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 1200 | 6 |
| GDH-1015 | -10~100 | ±0.0020 | 300×250×200 | 15 | 235×160 | 1800 | 6 |
| GDH-1020 | -10~100 | ±0.0020 | 300×250×270 | 20 | 235×160 | 2300 | 6 |
| GDH-1030 | -10~100 | ±0.0020 | 440×325×210 | 30 | 310×280 | 3000 | 6 |
| GDH-1050 | -10~100 | ±0.0020 | 500×340×300 | 50 | 350×300 | 4300 | 6 |
| GDH-10100 | -10~100 | ±0.0020 | 625×400×400 | 100 | 480×380 | 7500 | 6 |
| GDH-2006 | -20~100 | ±0.0020 | 275×195×120 | 6 | 180×140 | 1200 | 6 |
| GDH-2010 | -20~100 | ±0.0020 | 275×195×180 | 10 | 180×140 | 1600 | 6 |
高精度低温恒温槽，又称高精度低温恒温浴槽，是自带制冷和加热的高精度恒温源，兼具小型冷水机的功能。广泛应用于石油、化工、冶金、医药、生化、物性，测试及化学分析等研究部门、高等院校、工厂实验室及计量质检部门。根据槽开口尺寸的不同，可在浴槽内进行恒温实验，亦可通过软管与其他设备相连接，与恒温源配套使用。内循环：通过泵对槽内液体介质的循环吞吐，增加槽内温度的均匀性，减少温度波动。外循环：通过泵的循环能力，利用出水口将保温软管与外部设备连接，形成封闭回路，流回设备进水口，是将槽内恒温介质外引，建立外部恒温场。
的应用领域：
生化领域：旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等。材料领域：电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等。医疗领域：超导磁共振、直线加速器、CT、低磁场核磁共振、X光机、医用冷帽、降温毯等等。物化领域：激光器、磁场、各种分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域。使用的各种需水冷设备。
产品特点：
节约能源——在夏季和高环境温度下，冷却水可在系统回路中循环使用，节约大量的水资源。
效率更高——一台循环水设备可同时满足多台外部设备的冷却需求，持续提供低温恒温水源，适用于冷凝实验。
控温精度——PID控温技术，内置PT100传感器、控温精度高，温度数字显示，操作直观
安全性高――具有自我诊断功能；冷冻机过载保护等多种安全保障功能。
低温不冻液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需经常检查低温不冻液的密度使其满足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不冻液用水代替时，其zui低温度必须在0℃以上。
冷却水选型相关：通常，制冷能力在1000W以下机型小型循环水冷却恒温器广泛运用小功率激光器、平行蒸发仪、平行定量浓缩仪、平行反应器、蒸馏仪等实验室冷凝装置等。制冷能力在6000W以下中型循环水冷却恒温器广泛应用于AAS、ICP、ICP-MS、电镜等分析仪器行业，旋转蒸发仪、索氏提取、固液萃取仪、凯氏定氮仪等实验室设备，激光打标机、激光切割机等激光仪器及机床行业。制冷能力在10KW以上大型循环水冷却恒温器广泛应用于X－衍射仪、磁质谱仪、疲劳试验机、真空镀膜机、塑料成形设备、激光切割机、X－荧光光谱仪、红外光谱仪、差热分析仪、核磁共振等具有高制冷恒温要求设备。
应用范围：
对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。
其他产业用机器发热部分的冷却：等离子熔接、自动包装机、模具冷却、洗净机械、镀金槽、精密研磨机、射出成型机、树脂成型机的成型部分等。
分析检测机器的发热部分的冷却： 电子显微镜的光源、ICP发光分光分析装置的光源部分、分光光度计的发热部分、X线解析装置的热源、自动脉冲调幅器的发热部分原子吸光光度计的光源等。水箱可用优质的纯净水在机内外循环冷却，可保证对水质要求较高的精密仪器的正常运行，延长精密仪器的使用寿命。
常见问题解答：
1、水循环使用了一年多都很正常，可现在制冷速度好像越来越慢了，在气温越高时越明显？
答：水循环使用很简单，但是定期的维护保养工作还是不能忽视的。有很多看似故障的毛病其实就是没有定期做维护保养引起的。水循环自身的电功率和制冷剂从负载中带走的热量都需要从前通风罩处的散热器中排走，如果前通风罩上吸满灰尘和柳棉等就会妨碍这些热量的散发，制冷效果将大打折扣。一般来说在正常的使用条件下制冷量下降都是因为通风散热效果太差或环境温度太高引起的。
2、水循环以前使用都很正常，可现在发现噪音比以前大很多，这是什么原因？
答：前面提到过水循环的日常维护工作，这个问题也与之有关。大家都知道，水里面有很少部分的杂质，就是蒸馏水在加到水箱后也不可能*保证一点杂质都没有。对于水循环而言，一般温度都设置在20℃，特别适应微生物的生长和繁衍。时间长了以后这些微生物就会堵塞水路的过滤器造成回水不畅，水泵就会有较大的噪音。有时这些微生物附在了换热器的表面，造成换热器的传热效果变差，制冷量变小。所以一定要严格按照说明书中的要求做好日常维护工作，定时清洗内槽，长期停用，保持槽内干燥。水循环里面好像有漏水，有时地面一会儿就有几滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般来说在正常使用的过程中，水路是不会有泄漏的。在环境温度比较高空气中的相对湿度又太大时，在水循环的水路中的水泵、水管接头、外接水管处容易凝结露水，累积多了以后就滴到地面上了，不用担心是水路中有漏水的地方。如果您对这很介意的话，打开空调降低房间温度或是除湿都可以避免露水的产生。
