半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
| 水质：电阻率>15MΩ.cm 用途: 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。 |
| 半导体产品清洗超纯水设备，超纯水装置，超纯水处理设备；半导体芯片清洗超纯水设备，超纯水装置，超纯水处理设备*鸾江水处理设备。 新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、*、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。 制备半导体产品清洗纯水设备的工艺流程： 1、采用离子交换制取超纯水的方式 原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 2、采用反渗透与离子交换设备制取超纯水的方式 原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 3、采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备制取超纯水的的方式 原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。 超纯水设备适用于半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路，电解电容器生产铝箔及工作件的清洗， 电子管生产，显像管生产、配料用纯水，显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水，液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液，硅片清洗，另有少量用于药液配制，集成电路生产中高纯水清洗硅片，LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏，高品质显像管、萤光粉生产，半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗，超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料，实验室和中试车间，汽车、家电表面抛光处理，光电产品、其他高科技精微产品用纯水。 |
