产品简介
椭圆偏振法测量当线性偏振光照射到样品时反射光（椭圆偏振）时偏振的变化。 当s和p波根据样本分别改变其相位和反射幅度时，可以获得量化偏振变化的幅度比“tanψ”和相位差“cosΔ”。 tanψ，cosΔ称为“椭圆参数”，其光谱通过“光谱椭偏仪”进行测量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚测量仪除了基本的光谱椭圆仪系统外，自动角度调节机构还可以针对各种厚度进行高精度的膜厚测量。 可拆卸的缓速......
嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪 产品描述：
嵌入式膜厚仪-椭偏仪-膜厚测量仪-椭圆偏振光谱仪 是测量当线性偏振光照射到样品时反射光（椭圆偏振）时偏振的变化。当s和p波根据样本分别改变其相位和反射幅度时，可以获得量化偏振变化的幅度比“tanψ”和相位差“cosΔ”。 tanψ，cosΔ称为“椭圆参数”，其光谱通过“光谱椭偏仪”进行测量。Otsuka FE-5000/5000S膜厚测量仪除了基本的光谱椭圆仪系统外，自动角度调节机构还可以针对各种厚度进行高精度的膜厚测量。 可拆卸的缓速器和旋转分析仪还拓宽了可供测量的选择范围，并提高了测量精度。测量范围包括：椭圆参数（tanψ，cosΔ），光学常数分析（和：折射率，k：消光系数），厚度分析。
产品亮点：
- 椭圆光度法测量可见光和紫外线范围（250-800nm）
- 纳米级薄膜厚度
- 使用多通道光谱仪（超过400ch）进行快速测量
- 角度可调机构进行详细分析
- 通过光学常数数据库和配方注册功能实现高度可操作性
- 使用多层拟合分析进行光学常数测量，以控制膜厚度和膜性能
应用范围：
- 半导体晶圆(栅氧化薄膜，氮化膜 SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN 每种波长下抗蚀剂的光学常数)
- 复合半导体(AlxGa（1-x）As多层膜，非晶硅)
- FPD（平板显示器）(定向膜 ITO，MgO用于等离子显示器)
- 新材料(DLC（类金刚石），超导薄膜，磁头薄膜)
- 光学薄膜(TiO2，SiO2，多层膜，减反射膜，反射膜)
- 平版印刷(g射线（436nm），h射线（405nm），i射线（365nm），KrF（248nm）的光学常数 每种波长下抗蚀剂的光学常数)
技术参数：
- 测量样品：反光样品
- 样品尺寸：100x100mm
- 基本原理：旋转分析仪方法
- 膜厚范围：0.1 nm
- 照射（反射）角度：45～90°
- 照射（反射）角驱动方式：自动正弦驱动
- 点径：φ2.0/1.2
- tanψ精度：< ±0.01
- cosΔ精度：< ±0.01
- 可重复性：< 0.01%
- 波长范围：300-800nm/250-800 nm
- 探测器：多色仪（PDA, CCD）
- 光源：高稳定性氙气灯
- 平台驱动方式：手动/自动
- 尺寸：650（W)×400（D)×560（H）mm/1300（W)×900（D)×1750（H）mm
- 重量：50kg/350kg
- 软件分析：最小二乘薄膜分析（反射系数模型函数，Cauchy色散模型，nk-Cauchy色散模型）
- 理论分析（体表面分析（n.k.），角度相关性的同时分析
测量案例：
使用梯度模型进行ITO结构分析—应用FE0006。ITO（铟锡氧化物）是用于LCD显示器等平面显示器的透明电极材料。 ITO的成膜后，通过退火处理（热处理），可以提高ITO的导电性和色相。 那时，ITO的氧状态和结晶状态将发生变化。 该变化趋于相对于膜厚度逐步获得斜率变化，并且它不会变成光学组成均一的单层。 我们想介绍一种使用梯度模型来测量上下表面nk的倾斜度的情况。
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