TURBOVAC MAG W 830/1300 C W 1500 CTW 2000 C/CT W 2200 C W 2800/3200 (C/CT)典型应用- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺- 进样室，转移室- 粒子加速器- 科研- 镀膜系统技术特点- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统- 轴承系统的数字监控- 噪声和振动低- 任意方向安装- 的转子设计，实现高......
TURBOVAC MAG W 830/1300 C W 1500 CT
W 2000 C/CT W 2200 C W 2800/3200 (C/CT)
典型应用
- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺
- 进样室，转移室
- 粒子加速器
- 科研
- 镀膜系统
技术特点
- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统
- 轴承系统的数字监控
- 噪声和振动低
- 任意方向安装
- 的转子设计，实现高抽速和高前级耐压
- 智能电源控制系统
- CT版集成温度管理系统（TMS）
- C版耐腐蚀
客户得益
- 免维护
- 所有工艺气体都有高气载量
- 极限低，抽速高
- 前级耐压高
- 同类中重量较轻，尺寸较小
- 耐粉尘
- 温控达 90 °C (194 °F)，避免沉积物
（CT版）
- 高耐腐蚀性-CT版
- 气体吹扫系统
更多信息请联系莱宝：安博元科技 info
技术特点
- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统
- 轴承系统的数字监控
- 噪声和振动低
- 任意方向安装
- 的转子设计，实现高抽速和高前级耐压
- 智能电源控制系统
- CT版集成温度管理系统（TMS）
- C版耐腐蚀
客户得益
- 免维护
- 所有工艺气体都有高气载量
- 极限低，抽速高
- 前级耐压高
- 同类中重量轻，尺寸小
- 耐粉尘
- 温控达 90 °C (194 °F)，避免沉积物
（CT版）
- 高耐腐蚀性-CT版
- 气体吹扫系统
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典型应用
- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺
- 进样室，转移室
- 粒子加速器
- 科研
- 镀膜系统
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技术参数 TURBOVAC MAG W 1500 CT | ||||||
进气口 | DN | 200 ISO-F | 250 ISO-F | 200 CF | ||
PNEUROP的抽速 | ||||||
氮气 | I x s-1 | 1100 | 1220 | 1100 | ||
氩气 | I x s-1 | 1050 | 1180 | 1050 | ||
氦气 | I x s-1 | 1100 | 1200 | 1100 | ||
氢气 | I x s-1 | 920 | 1020 | 920 | ||
额定转速 | min-1 | 36 000 | 36 000 | 36 000 | ||
压缩比 | ||||||
氮气 | > 108 | > 108 | > 108 | |||
极限压强，根据 DIN 28 400 | ||||||
mbar (Torr) | < 10-8 (< 0 75 x 10-8) | < 10-8 (< 0 75 x 10-8) | < 10-10 (< 0 75 10-10) | |||
前级耐压（对氮气） | mbar (Torr) | 2 6 (1 95) | 2 6 (1 95) | 2 6 (1 95) | ||
推荐的前级泵 | ||||||
抽速达100m3/h的旋片泵或干泵 | TRIVAC D 65 BCS | TRIVAC D 65 BCS | TRIVAC D 65 BCS | |||
启动时间 | ||||||
达95%名义转度时 | min | < 6 | < 6 | < 6 | ||
出气口外形尺寸 | DN | 40 ISO-KF | 40 ISO-KF | 40 ISO-KF | ||
吹扫和破空口 | VCR | 1/4" | 1/4" | 1/4" | ||
冷却水接口 | ||||||
（管道外径） | mm (in ) | 6 4 (0 25) | 6 4 (0 25) | 6 4 (0 25) | ||
重量（近似） | kg (lbs) | 32 (70 6) | 32 (70 6) | 32 (70 6) | ||
更多信息请联系莱宝：安博元科技 info
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