离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水，产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量（SiO2）0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床，双床可一用一备，（不影响出产用水的连续性）；可串联使用，以进步产水水质，有效利用树脂的交换容量；当出产用水量大时，可并联使用，运行相称灵活、利便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。混床是混合离子交换柱的简称，是针对离子交换技术所设计的设备。......
离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水，产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量（SiO2）≤0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床，双床可一用一备，（不影响出产用水的连续性）；可串联使用，以进步产水水质，有效利用树脂的交换容量；当出产用水量大时，可并联使用，运行相称灵活、利便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。
混床是混合离子交换柱的简称，是针对离子交换技术所设计的设备。所谓混床，就是把一定比例的阳、阴离子交换树脂混合装填于统一交换装置中，对流体中的离子进行交换、脱除。因为阳树脂的比重比阴树脂大，所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下。一般阳、阴树脂装填的比例为1：2，也有装填比例为1：1.5的，可按不同树脂酌情考虑选择。 混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床。同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行，再生时树脂不移出设备以外，且阳、阴树脂同时再生，因此所需附属设备少，操纵简便，具有以下长处：
(1) 出水水质优良，出水pH值接近中性。
(2) 出水水质不乱，短时间运行前提变化（如进水水质或组分、运行流速等）对混床出水水质影响不大。
(3) 回收率达到99%
(4) 混床反洗过程！
