双温区PECVD实验室设备由滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1400度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计
产品结构：
1400度双温区cvd实验室设备由滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成 ，温度可以达到1400度，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计，可以对多种气体进行精确的混气，然后导入到管式炉内部。
滑动式快速退火管式炉炉管两端安装真空法兰，真空度用分子泵可以到10-5Torr，机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。
产品用途：
1400度双温区cvd实验室设备是一种特殊的高真空CVD系统，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
产品参数：
