三温区PECVD实验室设备由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成PECVD设备是借助于光放电等方法产生等离子体
产品结构：
1700度三温区CVD实验室设备由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成
CVD设备是借助于光放电等方法产生等离子体，光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点，工艺流程简单。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。
产品用途：
1700度三温区cvd实验室设备是一种特殊的高真空CVD系统，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
产品参数：
