【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备，⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机
主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备，
⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。
半导体专温控设备
射流式⾼低温冲击测试机
半导体专用温控设备chiller
Chiller气体降温控温系统
Chiller直冷型
循环风控温装置
半导体⾼低温测试设备
电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源
射流式高低温冲击测试机
快速温变控温卡盘
数据中心液冷解决方案
| 型号 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 温度范围 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控温精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 内循环液容积 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨胀罐容积 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷剂 | R410A | ||||||
| 载冷剂 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI温度需要控制10℃以上） | ||||||
| 进出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷却水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷却水流量at20℃ | 1.5m³/h | 2m³/h | 2.5m³/h | 4m³/h | 4.5m³/h | 5.6m³/h | 9m³/h |
| 电源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 温度扩展 | 通过增加电加热器，扩展-25℃～80℃ | ||||||
半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机
半导体液冷器Chiller FPD制造装置制冷机
随着科技的飞速发展，在这个微电子器件行业中，高精度、高稳定性的电子设备是必要的。而为了确保这些设备的正常运行，一个关键的设备——顶层介质刻蚀单通道chiller，也扮演着一定的角色。
顶层介质刻蚀单通道顶层介质刻蚀单通道chiller是一种用于冷却电子设备的设备，它通过降低设备的温度，保证其稳定运行，延长其使用寿命。在微电子器件行业中，顶层介质刻蚀单通道chiller的应用范围非常广泛，从大型计算机服务器到小型移动设备，都需要用到它。
在微电子器件行业中，顶层介质刻蚀单通道chiller的作用不仅仅局限于冷却设备。它还可以通过控制设备的温度，提高设备的性能和稳定性。例如，在一些高精度的电子设备中，温度的变化可能会对设备的性能产生影响。而通过使用顶层介质刻蚀单通道chiller，可以确保设备的温度始终保持在适合状态，从而提高设备的性能和稳定性。
除此之外，顶层介质刻蚀单通道chiller还可以通过提高设备的散热效率，减少设备的故障率。在一些高温环境下，如果电子设备无法及时散热，就可能会导致设备过热、损坏。而通过使用顶层介质刻蚀单通道chiller，可以确保设备的散热效率得到提高，从而减少设备的故障率。
