SE-VE椭偏仪是基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光谱,可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。
一、目的
本设备基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光谱,可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。
二、测量系统规格
SE-VE光谱椭偏仪技术参数
椭偏仪测头规格:
光谱范围:400-800nm
入射角:65°
光斑大小:2-3mm
调制技术:PCRSA调制技术
膜厚重复性测量精度:0.05nm(100nm 硅基SiO2样件,30次重复测量1σ)
折射率测量精度:0.001(100nm 硅基SiO2样件,30次重复测量1σ)
膜厚测量范围:0.1nm—10μm
单点测量时间:<5s
光源:高性能进口卤素灯光源(卤素灯寿命:2,000h)
可视化样品显微对准系统
图1光谱椭偏测头原理图
图2 SE-VE光谱椭偏仪实物图
样品台规格:
基板尺寸:*大支持样件尺寸到8inch晶圆 (可定制)
Z轴位移行程:0-10mm
样件台俯仰角度:> ±2°
测控与分析软件
光谱测量能力:PSI/DELTA椭偏光谱、N/C/S光谱、反射率光谱测量
数据分析能力:具备单层、多层膜厚、光学常数(折射率、消光系数)分析能力
支持常用光学常数模型以及常用振子模型(柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等),并支持图形化多振子混合模型拟合功能
支持多组分薄膜与体材料光学常数、组分比例分析功能; 核心算法包含严格耦合波模型、等效介质模型
支持用户自定义,软件不限制拷贝数量,支持windows10操作系统
测控与分析计算机
操作系统:WIN10 64位
CPU处理器:Intel 酷睿I3
内存:≥4G
硬盘:≥500G
显示器:≥19寸
配件
标准SiO2/Si标样
标准安装工具一套
环境要求
椭偏仪承载台:尺寸>1.5m(长)× 1.0 m(宽),承载能力大于50Kg(建议光学隔振)
使用温度范围:20 ~ 26 ℃
相对湿度:35% ~ 60% RH
空气压力范围:750~1014 mbar
洁净度: Class 10000
能源要求
供电电源电压:220V AC
正常频率范围:49-51Hz
相电流:有效值小于0.5A(220V AC)
功率:小于110 W
涂装与表面处理
涂装颜色:以黑色为主
表面处理:镀化学镍、阳极处理、烤漆等
质保与售后服务
整机硬件质保期为12个月。在质保期内出现各类故障供方及时免费维修,对非人为造成的各类零件损坏,及时免费更换
测控与分析软件:升级,数据分析软件提供拷贝
为用户提供**充分仪器操作与数据分析培训
提供终身免费数据建模与分析技术支持,为用户提供样件材料光学常数标定与模型库升级服务
供方在接到故障报修信息后,供方维修人员4小时内电话响应,*晚48小时内供方服务工程师进行****维修