工业反渗透设备主要用于工业生产用水的纯水制取装置。可以用于：光电行业用水制取、精细化工行业用水制取、电镀涂装行业用水制取、电子半导体行业超纯水制取、精密机械行业用水制取等。
JX-9100型反渗透设备
工业反渗透设备主要用于工业生产用水的纯水制取装置。可以用于：光电行业用水制取、精细化工行业用水制取、电镀涂装行业用水制取、电子半导体行业超纯水制取、精密机械行业用水制取、电厂锅炉行业用水制取、代替各类蒸馏水及超纯水供水等。可根据不同需要定制生产。 从1T/H到1000T/H均可承接。
设备分类
根据各行业工艺用水要求不同和原水水质不同，可定制不同的工业反渗透设备达到用水标准。
反渗透设备工艺
工业反渗透设备需要根据实际用水要求配置不同的工艺流程，各行业的用水标准不同，如电阻分为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等标准，电导率从20uS/cm-0.1uS/cm不等，因此需要针对不同标准配置不同的预处理系统、单级双级反渗透工艺，后处理系统（EDI电除盐系统、抛光混床系统、紫外线杀菌、臭氧发生器、二氧化氯等）。
应用场合
1、电子工业用水：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；高品质显像管、萤光粉生产；半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；实验室和中试车间；光电产品；其他高科技精微产品。
2、精密机械行业用水：汽车零部件的生产加工；飞机、汽车发动机叶片的生产加工；打印机、机激光头的生产加工；光驱、硬盘的读写磁头及盘片的生产加工；其他对产品有特殊要求的精密机械产品的生产加工。
3、电厂锅炉行业用水：符合国家或行业锅炉给水标准（GB1576-79、DL/T561-95），适合中、高压锅炉补水水质要求。电阻率在0.5-10MΩ.cm的（超）纯水。
4、精细化工行业用水：化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程；电子半导体、集成电路板上用到的化工材料；石英、硅材料生产、加工、提纯；高纯墨水、打印机中的喷墨、纳米墨水。
5、电镀涂装行业用水：电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm-5uS/cm以下的纯水，另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下纯水来清洗，此外超滤和反渗透还可以用来回收漂洗液中的贵重金属离子，渗透过来的水再返回作镀件清洗之用。
反渗透膜清洗服务
反渗透装置尽管采用了合理的预处理系统，和良好的运行管理，它只能使反渗透膜的污染程度降到限度，要消除膜的污染是不可能的。因此，反渗透装置在正常运行一段时间之后，将受到各种微量有机物、无机物的污染。当膜受到污染后，往往会出现反渗透装置的产水量、脱盐率和装置进出口压力降增大等明显征状。当装置的产水量下降10％（在同温度和压力下），盐透过量增加一倍，压降增加一倍，这三种现象出现其中一个时，进行化学清洗是必要的。同时当反渗透装置需要长期停用而进行保护之前，也需要进行化学清洗。值得注意的是，如果进水温度降低也会导致产水量下降，这是正常的，并不表明膜被污染，预处理、高压等方面产生故障也会导致进水压力、进水流量、产水流量和脱盐率的下降。化学清洗时，首先是要判断污染物的种类，然后根据膜的特性选择合适的清洗配方和清洗工艺。要注意控制清洗液的PH值、温度和每根组件的进入流量，清洗效果可以通过比较清洗前后装置的脱盐率、产水量和压力降等性能来确认，除了周期性的化学清洗之外，每次停车之后，用预处理水或反渗透水进行低压大流量冲洗，这对于降低膜污染的速度，延长化学清洗的周期和膜的使用寿命是有效的。
