产品简介

凭借过去 60 年的技术创新历史和业内， FEI 成为了透射电子显微镜 (TEM)、 扫描电子显微镜 (SEM)、整合了 SEM 与聚焦离子束 (FIB) 的 DualBeam™ 仪器和 用于精密高速切割与加工的专用聚焦离子束仪器的性能标准。 FEI 成像系统在三维 表征、分析和修改/原型设计领域实现了亚埃(埃:十分之一纳米)级分辨率。

产品详情

Prisma & Prisma EX多功能环境真空钨灯丝分析扫描电子显微镜

• 一款真正多用途实验室用性能全面、易操作的SEM钨灯丝扫描电子显微镜
• 具有的ESEM™环境真空模式
• 高真空、低真空和ESEM™环境真空三种真空模式，适合分析泛的样品，样品范围包括导电材料、不导电材料、脱气、未镀膜或其他不适用真空的样品。
• 一系列集成的实时分析软件来完成动态的实验检测分析。
• 低真空和ESEM环境真空能够满足非导电材料和含税样品的检测分析
• 原位功能使即使是绝缘的或高温的样品也能获得可靠的分析结果。
• 支持扫描前的预设置，具有导航和SmartScanTM功能的相机提高了工作效率、数据质量和满足更高要求的使用要求。
• -165°C to 1400°C温度范围下的原位分析
• 加速电压: 200 V - 30 kV
• 电子放大倍数: 6x – 1,000,000x (可同时采集和显示四幅图像)
• 探测器：高真空模式Everhart-Thomley二次电子探测器(E-T SED)；低真空SE探测器（LVD）；ESEM环境真空模式气体二次电子探测器（GESD）；样品室红外CCD相机
• 真空系统：1个250L/s涡轮分子泵，1个旋转机械泵；的“穿过透镜”的压差真空系统；排气时间≤3.5min到高真空，≤4.5min到ESEM真空/低真空；可选CryoCleaner冷阱；可选升级到无油滚动/干式PVPs
• 样品室：

o 内径 340 mm

o 分析工作距离 10 mm

o 12个附件接口

o EDS采集角: 35°

• 分辨率：

高真空模式

• 3.0 nm @ 30 kV (SE)
• 4.0 nm @ 30 kV (BSE)*
• 8.0 nm @ 3 kV (SE)

高真空下减速模式

• 7.0 nm @ 3 kV

低真空模式

• 3.0 nm @ 30 kV (SE)
• 4.0 nm @ 30 kV (BSE)
• 10 nm @ 3 kV (SE)

• ESEM环境真空
  • 3.0 nm @ 30 kV (SE)