HORIBA真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。
HORIBA真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。
HORIBA真空紫外椭偏仪产品特点
50KHz 高频PEM 相位调制技术
45 秒内完成充氮气
2 分钟内完成样品室抽真空
8 分钟内完成光谱全谱范围内测量
两种工作模式：氮气清洗结合抽
真空、连续氮气清洗
光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm
重点应用领域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有机材料、高分子材料
高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂层
半导体和介电材料电子跃迁
MgF2、CaF2、LaF3
