三对甲苯基膦高速研磨分散机采用了二级处理结构，*级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块，第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定转子精密度都达到了*水平。
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【三对甲苯基膦介绍】
三对甲苯基膦是一种化学物质，分子式是C21H21P。
外观：白色或淡黄色固体
中文别名：对甲基三苯基膦;三(对甲苯基)膦;三对苯甲基膦
英文别名：phosphine, tris(4-methylphenyl)-; Tris(4-methylphenyl)phosphine; tris(4-methylphenyl)phosphane
分子式：C21H21P
分子量：304.3652
InChI：InChI=1/C21H21P/c1-16-4-10-19(11-5-16)22(20-12-6-17(2)7-13-20)21-14-8-18(3)9-15-21/h4-15H,1-3H3
沸点：399.8°C at 760 mmHg
闪点：206.3°C
蒸汽压：3.07E-06mmHg at 25°C
【CMD系列纳米研磨分散机的成功应用案例】
1、硅油乳化可获得200nm的粒径，体系均匀稳定，泛蓝光；
2、纳米白炭黑分散乳化，沉淀法白炭黑可达200nm粒径，气相法白炭黑可达50nm；
3、各类纳米金属氧化物的分散乳化，可还原物料原始粒径；
4、新材料应用方面，碳纳米管浆料、石墨烯浆料的分散，特别是石墨烯高速剪切十分适合分散剥离；
5、医药方面，疫苗乳化、纳米医药混悬液分散、口服液分散乳化等；
采用了二级处理结构，*级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块，第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定转子精密度都达到了水平。
IKN研磨分散机，是IKN公司研发出来的新品，是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。物料既可以有效分散，又可以防止团聚。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
【结构设计】
研磨分散机是由胶体磨、乳化分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。
[CMD2000系列研磨分散机的特点]
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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