头孢母核厂家说明产品步骤如下：
（1）还原物Ⅰ的制备，搅拌下加入3羟基头孢，四氢呋喃，降温至10～5℃，加入四氢呋喃溶液四氢呋喃溶液，室温下搅拌反应，反应完毕，降温至15～10℃，滴入冰乙酸，搅拌、升温至室温，反应液蒸去四氢呋喃得还原物Ⅰ；
（2）7ANCE的制备，在通氮气状态下，加入二氯甲烷，冷却至15～20℃，加入二氯三苯基膦、还原物Ⅰ，吡啶，15～18℃进行反应，再加入醇，将体系升温至25～28℃搅拌反应，反应完毕得头孢布烯母核7ANCE。
本方法生产过程安全、成本低，同时简化工艺路线，实现羟基消除和脱保护反应同时进行，缩短了操作时间，提高了收率，便于工业化生产。
头孢母核的β-内酰胺键相对稳定而不易开环，故而头孢类药物并没有共同的抗原决定簇，其过敏反应更显得“捉摸不定”。
（1） 头孢菌素类药物缺乏共同的抗原决定簇。
（2） 侧链在头孢菌素的过敏中具有一定的作用：
a. 早期头孢（一代头孢、80年代以前上市的二代头孢）的R1侧链与部分青霉素类药物相似，可导致与青霉素的交叉过敏。
b. 侧链可导致头孢菌素间的交叉过敏。头孢菌素按侧链结构可分为三类，同类头孢菌素间的交叉过敏风险远高于不同类别的头孢菌素：
A类头孢菌素：侧链均含甲氧亚氨基，包括头孢呋辛、头孢曲松、头孢噻肟、头孢他啶、头孢地嗪、头孢吡肟等。
B类头孢菌素：侧链均含相似的胺基基团，包括头孢克洛、头孢氨苄、头孢羟氨苄等。
C类头孢菌素：侧链各不相同，包括头孢唑林、头孢哌酮、头孢丙烯等其它头孢菌素。
（3）其它各类物质（杂质）均可导致过敏：
a. 早期头孢菌素内含少量青霉素，可导致过敏。
b. 高分子杂质（聚合物）是导致过敏的主要因素：
外源性杂质：多源于生产过程中混入。
内源性杂质：来自于β-内酰胺键开环、药物分子聚合。可来源于生产过程中的污染、储存过程中的聚合。
c. 药物包材：玻璃瓶、胶塞释放的物质也可引起过敏。
